그래핀 제작방법 및 물성 연구项目来源韩国国家科技基金项目主持人조병진项目受资助机构한국과학기술원立项年度2010立项时间未公开项目编号1345123752研究期限未知 / 未知项目级别国家级受资助金额290000000.00韩元学科未公开学科代码未公开基金类别미래기반기술개발关键词未公开参与者未公开参与机构未公开项目标书摘要:본 과제는 분야별 전문성을 가지는 네 기관(KAIST 조병진 교수, KRISS 황찬용 박사, KIAS 손영우 교수, 나노종합팹)의 공동연구로 진행된다. 2차 년도에서는 1단계 연구 목표인 1인치 크기의 Graphene on Silicon(GOS) 웨이퍼를 제작하기 위한 기법을 선택하고 그 방법을 구체화하는 연구를 진행하였다. Thin film metal 을...排序方式: 时间 相关性显示方式: 列表 摘要0/排序方式: 时间 相关性显示方式: 列表 摘要0/