전자빔 기술을 이용한 반도체 공정의 독성 가스 처리기술 개발
项目来源
韩(略)科(略)
项目主持人
유(略)
项目受资助机构
한(略)력(略)
项目编号
1(略)0(略)9(略)
立项年度
2(略)
立项时间
未(略)
研究期限
未(略) (略)
项目级别
国(略)
受资助金额
3(略)0(略)0(略)韩(略)
学科
未(略)
学科代码
未(略)
基金类别
차(略)코(略)이(略)개(略)((略)업(略)기(略)사(略)
关键词
未(略)
参与者
未(略)
参与机构
未(略)
项目标书摘要:○ (略) 공정에서 발생하(略)하여 DRE 80(略),000L/min(略) 처리 장치의 설(略)반도체 제조공정에(略)스 (혹은 모사가(略)정 적용 (DRE(略)제점 분석 및 보(略)량 처리 가능토록(略) 인자등Pi...
- (略)