전자빔 기술을 이용한 반도체 공정의 독성 가스 처리기술 개발

项目来源

韩国国家科技基金

项目主持人

유재용

项目受资助机构

한국원자력연구원

立项年度

2013

立项时间

未公开

项目编号

1485011193

项目级别

国家级

研究期限

未知 / 未知

受资助金额

320000000.00韩元

学科

未公开

学科代码

未公开

基金类别

차세대에코이노베이션기술개발사업(환경산업선진화기술개발사업)

关键词

未公开

参与者

未公开

参与机构

未公开

项目标书摘要:○ 가속기를 통한 반도체 공정에서 발생하는 모사가스에의 적용하여 DRE 80% 이상 달성, 20,000L/min 규모 대용량 전자빔 처리 장치의 설계 인자를 도출함. 반도체 제조공정에서 발생하는 실제 가스 (혹은 모사가스)에 전자빔 처리공정 적용 (DRE 80% 이상), 문제점 분석 및 보완, POU 및 대용량 처리 가능토록 설계, 시스템 설계 인자등Pi...

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