전자빔 기술을 이용한 반도체 공정의 독성 가스 처리기술 개발项目来源韩国国家科技基金项目主持人유재용项目受资助机构한국원자력연구원立项年度2013立项时间未公开项目编号1485011193项目级别国家级研究期限未知 / 未知受资助金额320000000.00韩元学科未公开学科代码未公开基金类别차세대에코이노베이션기술개발사업(환경산업선진화기술개발사업)关键词未公开参与者未公开参与机构未公开项目标书摘要:○ 가속기를 통한 반도체 공정에서 발생하는 모사가스에의 적용하여 DRE 80% 이상 달성, 20,000L/min 규모 대용량 전자빔 처리 장치의 설계 인자를 도출함. 반도체 제조공정에서 발생하는 실제 가스 (혹은 모사가스)에 전자빔 처리공정 적용 (DRE 80% 이상), 문제점 분석 및 보완, POU 및 대용량 처리 가능토록 설계, 시스템 설계 인자등Pi...排序方式: 时间 相关性显示方式: 列表 摘要0/排序方式: 时间 相关性显示方式: 列表 摘要0/