面板级扇出型封装之高可靠度铜—铜对接技术开发

项目来源

台(略)府(略)金(略)B(略)

项目主持人

王(略)

项目受资助机构

台(略)创(略)份(略)司

立项年度

2(略)

立项时间

未(略)

项目编号

1(略)C(略)

项目级别

省(略)

研究期限

未(略) (略)

受资助金额

5(略).(略)元(略)

学科

材(略);(略)机(略)物(略)

学科代码

未(略)

基金类别

技(略)/(略)理

关键词

扇(略)装(略)铜(略)接(略)

参与者

许(略)林(略)

参与机构

未(略)

项目标书摘要:近年(略)电子封装制程技术日(略)低耗能、高速讯号传(略)跳脱摩尔定律框架的(略)tem in Pa(略)为注目焦点。SiP(略)堆叠的方式,达到2(略)装技术整合异质基板(略)rough-sil(略)V)或是玻璃穿孔((略)ss via,TG(略)接合(Cu-to-(略),达成元件内部垂直(略)幅度的降低讯号传输(略)时的功率损耗。然而(略)接合後容易在接合接(略)脆性的介面金属共化(略)llic comp(略)元件尺寸微型化的诉(略)高阶半导体封装元件(略)缩小,因此在铜—铜(略)铜凸块形成介面金属(略)接面的机械强度、电(略)用时IC 内部或铜(略)温而逐渐使整个铜凸(略)物,因此铜—铜接面(略)可靠度问题也备受考(略)构研究成果,以镓((略)焊料进行铜—铜接合(略)物之高机械强度及高(略)划中,将是针对接合(略)优化,同时将针对接(略))层进行制程开发及(略)Ga 基浆料与Ni(略)特性的影响。最後,(略)靠度测试,探讨铜—(略)配Ga 基浆料、N(略)此,透过此计划,将(略)达成优化,将可达到(略)铜—铜接面。

项目受资助省

台(略)

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