超宽带隙透明导电薄膜的制备和MgZnO日盲紫外探测器面阵的制备

项目来源

国(略)科(略)((略)C(略)

项目主持人

郑(略)

项目受资助机构

福(略)大(略)

立项年度

2(略)

立项时间

未(略)

项目编号

6(略)6(略)

项目级别

国(略)

研究期限

未(略) (略)

受资助金额

2(略)0(略)

学科

信(略)-(略)科(略)息(略)半(略)电(略)与(略)

学科代码

F(略)4(略)4(略)

基金类别

青(略)基(略)

关键词

M(略)O(略)透(略)薄(略) (略);(略) (略)外(略) (略)g(略) (略)明(略)膜(略)日(略) (略);(略)探(略)

参与者

黄(略)伦(略)继(略)启(略)召(略)嘉(略)

参与机构

中(略)院(略)质(略)究(略)

项目标书摘要:面阵(略)网电晕监测、导弹预(略)景,是目前国民经济(略)MgZnO合金薄膜(略)-7.8 eV),(略),是制备日盲紫外探(略)而,由于稳定的p型(略)难,无法制备p-i(略)测器。目前报道的Z(略)指式结构,无法实现(略)一步发展。本申请提(略)材料制备MgZnO(略)法。该方法的核心在(略)高导、高日盲紫外光(略)电薄膜。申请者提出(略)性材料,并在此基础(略)MgZnO日盲紫外(略)MgZnO日盲紫外(略)

Applicati(略): Focal p(略)blind ult(略)otodetect(略) attracte(略)ntion for(略)ns to ele(略)rk monito(略)ssile war(略)s.MgZnO f(略)omising m(略) fabricat(略) it has w(略)p range t(略)3.3 to 7.(略)gh optoel(略)sponsivit(略)t is hard(略)stable p-(略)sed film,(略),fabricat(略)n SBPD wi(略) structur(略)a problem(略) reported(略)SBPDs are(略)al-semico(略)al struct(略)an not be(略)to focal (略)s.In this(略)new type (略)t p-type (略)aterial i(略)to realiz(略)cation of(略) focal pl(略)Fabricati(略)conductiv(略)d MgZnO f(略)gh transm(略)the solar(略)tral rang(略)y issue o(略)ct.We try(略) the key (略) a two-st(略)and then (略)ackillumi(略)cal struc(略)SBPD.Furt(略)ackillumi(略)-blind fo(略)rrays can(略)d.

项目受资助省

福(略)

项目结题报告(全文)

高Mg组分的MgZ(略)性能良好的日盲紫紫(略)针对已有MgZnO(略)金属—半导体—金属(略)的问题,进行了垂直(略)探测器的设计和探索(略)长了高Mg组分(>(略)金薄膜,制备了单一(略)1-xO合金薄膜,(略)之间的对应关系。生(略)xZn1-xO(A(略)研究不同的退火气氛(略)ZO薄膜光学和电学(略)Zn气氛退火的微观(略)超宽带隙高载流子浓(略)膜;采用改进的AM(略)层膜结构,进一步提(略)了Al:MgxZn(略))超宽带隙透明导电(略)导电层的禁带宽度大(略)度达到5.03×1(略)薄膜的电阻率为9.(略)cm。超宽带隙日盲(略)解决了传统ITO和(略)问题,可应用于深紫(略)器件的透明导电层,(略)学性能。探索了Mg(略)工工艺,探明了Zn(略),制备垂直结构的M(略)单元和4×4元焦平(略)应峰在252nm,(略),均处于日盲响应波(略)响应度为113.4(略)外探测器的原型机,(略)电晕中日盲紫外信号(略)可应用于日盲紫外信(略)灾报警、环境紫外辐(略)闪信号监测和导弹来(略)索,基于本项目制备(略),制备了垂直结构的(略)测器单元和面阵器件(略)需外加偏压,减少了(略)作在更加恶劣的环境(略)O紫外探测器制备的(略),制备了其他宽禁带(略)Ga2O3)的紫外(略)

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