CVD 공정 기반 자기윤활 나노구조체 MoS2-Si-CHx Bilayer 적층기술 개발(1/1)

项目来源

韩(略)科(略)

项目主持人

안(略)

项目受资助机构

한(略)기(略)원

立项年度

2(略)

立项时间

未(略)

项目编号

1(略)1(略)5(略)

项目级别

国(略)

研究期限

未(略) (略)

受资助金额

3(略)0(略).(略)元

学科

未(略)

学科代码

未(略)

基金类别

한(略)기(略)원연구운영비지원(R&D)(주요사업비)

关键词

未(略)

参与者

未(略)

参与机构

未(略)

项目标书摘要:연구(略)Si-CHx로 결(略)oS2 박막의 적(略)lower-lik(略)2 박막 증착공정(略)Size 2000(略)     -Flo(略)구조체 MoS2 (略)정변수 확립:Mo(略)H2S 기체상에서(略)성 메커니즘 연구(略)노구조체 분포도 (略)조체의 형상 제어(略) 표면에서의 Si(略)적화:Si계 무기(略)ecursor 가(略)i계 무기물 박막(略)화학조성비 제어 (略)조 제어를 위한 (略)윤활코팅막 형성을(略)-CHx 적층공정(略)u 증착 안정성 (略)공정 sequen(略)-Si-CHx 경(略)결정 분석을 통한(略)        -(略)체제에 대응할 수(略)화된 Proces(略)마찰 코팅기술에 (略)할 수 있을 것으(略)용중인 분사 및 (略) MoS2 자기윤(略) 물성을 구현하면(略)및 고균일화를 통(略) 넓힐 수 있는 (略)것으로 기대됨.-(略)는 고부가가치 소(略) 관련 기술에 대(略)임으로서 대외경쟁(略)국산화를 통해 국(略)기대할 수 있음.(略) 피스톤,베어링 (略)기계부품(MEMS(略)소형 엑츄에이터,(略) 복잡하거나 미세(略) 저마찰 자기윤활(略)밀하게 제어할 수(略) 적용 가능할 것(略)장성이 용이한 화(略)함으로서 획일화된(略) 수 있으며 대량(略)가능해 고부가가치(略) 공정 단가 감소(略)

  • 排序方式:
  • 0
  • /
    (略)
  • 排序方式:
  • 0
  • /